等離子技術(shù)拋光過程中理想的拋光溫度是多少？
拋光液的溫度越低，材料的去除速度越快。低溫條件下材料的去除速度快主要是因?yàn)椋簻囟仍降?，拋光液被蒸發(fā)需要吸收的熱量就越多，相同條件下生成的氣體越少，包圍在零件周圍的混合氣體層越薄，而在壓強(qiáng)和電壓不變的情況下，氣體變薄就意味著電場強(qiáng)度增大，導(dǎo)致碰撞電離系數(shù)顯著增大，雖然總的碰撞距離減小，但仍然有更多的電子沖擊到工件表面，材料的去除速度當(dāng)然更快。但在拋光液低溫情況下，混合氣體層較薄，也意味著氣體層不太穩(wěn)定，等離子拋光過程中斷并轉(zhuǎn)變一般電解的的可能性越大，同時(shí)氣體層薄也意味著系統(tǒng)的電阻減小，電流增大，且電流值大幅度變化，常常引起零件尖銳部位燒蝕等現(xiàn)象，這對復(fù)雜形狀零件和大尺寸零件來說特別明顯。
隨著拋光液溫度的提高，等離子納米拋光過程開始穩(wěn)定，90-95℃屬于理想加工溫度范圍，在這一范圍內(nèi)材料的去除速度雖然不是最快，卻更容易獲得更好的表面質(zhì)量。溫度繼續(xù)升高將導(dǎo)致拋光液氣化增強(qiáng)，混合氣層溫度升高厚度增加，加工時(shí)間也相應(yīng)延長。當(dāng)拋光液溫度達(dá)到95-99℃時(shí)，等離子加工過程轉(zhuǎn)到泡沫狀態(tài)。拋光液沸騰，蒸氣氣層失去自身最初的尺寸和形狀，整個(gè)零件處于連續(xù)移動(dòng)的泡沫中，其電阻與等離子理想加工狀態(tài)的氣層電阻值相比大大提高，此時(shí)被加工表面電流也會(huì)減小。
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