等離子拋光是化學變化嗎？
等離子拋光作為一種新的拋光工藝,是綠色制造超精密加工領(lǐng)域中一種新的發(fā)展趨勢.文中在闡述等離子體拋光原理及加工裝置的基礎(chǔ)上,綜述了等離子體拋光的應用范圍,包括民用五金件、數(shù)碼產(chǎn)品以及日常生活用品等對表面質(zhì)量要求較高的金屬零件的應用情況,并展望了未來在航空航天及軍工領(lǐng)域高品質(zhì)工業(yè)產(chǎn)品的等離子拋光的應用前景.
隨著我國裝備制造業(yè)中所需要加工零件的精度越來越高，傳統(tǒng)的拋光方式已經(jīng)滿足不了產(chǎn)品需求，特別是復雜曲面和復雜腔體內(nèi)表面的拋光更對加工方法和加工設(shè)備提出了新的挑戰(zhàn)，而等離子拋光是在納米級拋光領(lǐng)域內(nèi)出現(xiàn)的新方法。
等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子[ 1]。在高溫超高電流的
作用下，電解質(zhì)水產(chǎn)生電離子，分離化學液態(tài)電漿，利用電解質(zhì)水溶和高溫、高壓的配合產(chǎn)生等離子，等離子與工件的表面摩擦而產(chǎn)生拋光效果。等離子拋光為化學作用和電化學作用的結(jié)合，可以用于去毛刺，增加耐磨度，增加光亮度，對工件的任何一個面都能拋光。
等離子拋光的過程中涉及到化學變化，其材料去除機理主要表現(xiàn)在材料的化學去除過程，其原理為反應等離子在放電過程中產(chǎn)生許多離子和化學活性中性物質(zhì)，這些中性物質(zhì)稱其為自由基，與原來的氣體分子相比，這些自由基是最活躍的刻蝕劑，
等離子體的材料去除機理就是上述的一種或幾種反應的綜合，不僅僅包括化學反應
的去除原理，還包含物理方法的去除原理，但最主要的還是氣相化學反應去除原理。
在日常五金件中，等離子拋光可有廣泛應用，針對目前所采用的振動拋光方法，其表面紋路及邊角“倒棱”處振動拋光無法處理，而采用等離子拋光后表面無任何紋路，表面棱角處過渡光滑，如圖2所示?？蓪ぜ娜魏尾课贿M行拋光，且拋光均勻、美觀、成品率高。
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